业内首颗!国产18亿像素相机全画幅CMOS图像传感器成功试产

⭐发布日期:2024年09月27日 | 来源:财联社

⭐作者:陈文公妫圉 责任编辑:Admin

⭐阅读量:738 评论:8人

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IT之家 8 月 19 日消息,晶合集成今日官宣,该公司与思特威联合推出业内首颗 1.8 亿像素全画幅(2.77 英寸)CIS(CMOS 图像传感器),为高端单反相机应用图像传感器提供更多选择。

▲ 产品图,图源晶合集成,下同

据介绍,为满足 8K 高清化的产业要求,高性能 CIS 的需求与日俱增。晶合集成基于自主研发的 55 纳米工艺平台,携手思特威共同开发光刻拼接技术,克服了在像素列中拼接精度管控以及良率提升等困难,成功突破了在单个芯片尺寸上,所能覆盖一个常规光罩的极限,同时确保在纳米级的制造工艺中,拼接后的芯片依然保证电学性能和光学性能的连贯一致。

▲ 拍摄样图

晶合集成在官宣公告中称,首颗 1.8 亿像素全画幅 CIS 的成功试产,既标志着光刻拼接技术在大靶面传感器领域的成功运用,也为未来更多大靶面全画幅、中画幅传感器的开发铺平了道路。同时,该产品具备 1.8 亿超高像素 8K 30fps PixGain HDR 模式高帧率及超高动态范围等性能,可兼容不同光学镜头,提升产品在终端灵活应用的适配能力,打破了日本索尼在超高像素全画幅 CIS 领域长期垄断地位,为本土产业发展贡献力量。

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晶合集成专注于半导体晶圆生产代工服务,为客户提供 150-40 纳米不同制程工艺,未来将导入更先进制程技术。2023 年 5 月,晶合集成正式在上海证券交易所科创板挂牌上市,成为安徽省首家成功登陆资本市场的纯晶圆代工企业。晶合集成已实现显示驱动芯片(DDIC)、微控制器(MCU)、CMOS 图像传感器(CIS)、电源管理(PMIC)、逻辑应用(Logic)等平台各类产品量产。

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黄坤

7秒前:▲ 拍摄样图晶合集成在官宣公告中称,首颗 1.

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Shelagh

4秒前:晶合集成基于自主研发的 55 纳米工艺平台,携手思特威共同开发光刻拼接技术,克服了在像素列中拼接精度管控以及良率提升等困难,成功突破了在单个芯片尺寸上,所能覆盖一个常规光罩的极限,同时确保在纳米级的制造工艺中,拼接后的芯片依然保证电学性能和光学性能的连贯一致。

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邹俊百

2秒前:晶合集成专注于半导体晶圆生产代工服务,为客户提供 150-40 纳米不同制程工艺,未来将导入更先进制程技术。

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